Fotorezist polimerlar va ba'zi birikmalar aralashmasi bo'lib, ular orasida eng muhimi foto kislota generatori (PAG). Fotonlar PAGga tushganda, polimer bilan reaksiyaga kirishadigan, uni parchalaydigan va ishlab chiquvchi tomonidan eritilishiga olib keladigan kislota hosil bo'ladi.
Fotolitografiya fotorezisti odatda ikki turga bo'linadi: ijobiy fotorezist va salbiy fotorezist.
Ijobiy fotorezist: ochiq qism ishlab chiqaruvchi eritmasida eriydi, ochiq bo'lmagan qismi esa ishlab chiqaruvchi eritmasida erimaydi. Rivojlanishdan so'ng, substratdagi qolgan fotorezist naqsh niqob plastinkasidagi maqsadli naqsh bilan bir xil bo'ladi.
Salbiy fotorezist: ochiq qism ishlab chiqaruvchi eritmasida erimaydi, ochiq bo'lmagan qismi esa ishlab chiqaruvchi eritmasida eriydi. Rivojlanishdan keyin substratda qolgan fotorezist naqsh niqob plastinkasidagi maqsadli naqshni to'ldiradi.
Shuning uchun, musbat fotorezist uchun, fotolitografiya tugagandan so'ng, fotorezistdan himoyasiz substratni qirqish va nihoyat, qolgan fotorezistni yuvish substrat yuzasida yarimo'tkazgich qurilmalarining bir bosqichli qurilish jarayoniga- erishadi.
